紫外光催化氧化設(shè)備運行成本低：本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能），設(shè)備風阻極低＜50pa,可節(jié)約大量排風動力能耗。UV光催化氧化設(shè)備凈化裝置部分粗過濾采用高性能過濾材料,阻力小。UV光催化氧化廢氣除臭設(shè)備對廢氣進行粗過濾,可去除廢氣中的懸浮顆粒和小霧滴。濾網(wǎng)強度好、耐腐蝕、清洗方便、清洗后可重復(fù)使用、過濾阻力低。
紫外光催化氧化設(shè)備光化學(xué)及光催化氧化法是目前研究較多的一項氧化技術(shù)。所謂光催化反應(yīng)，就是在光的作用下進行的化學(xué)反應(yīng)。光化學(xué)反應(yīng)需要分子吸收特定波長的電磁輻射，受激產(chǎn)生分子激發(fā)態(tài)，然后會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成新的物質(zhì)，或者變成引發(fā)熱反應(yīng)的中間化學(xué)產(chǎn)物。光化學(xué)反應(yīng)的活化能來源于光子的能量，在太陽能的利用中光電轉(zhuǎn)化以及光化學(xué)轉(zhuǎn)化一直是十分活躍的研究領(lǐng)域。隨著納米技術(shù)的興起和光催化技術(shù)在環(huán)境保護、衛(wèi)生保健、有機合成等方面應(yīng)用研究的發(fā)展迅速，納米量級的光催化劑的研究，已經(jīng)成為上活躍的研究領(lǐng)域之一。
UV光催化氧化設(shè)備的適用廢氣種類：
除臭設(shè)備適用于：丙酮、丁酮、乙酸乙酯、VOC、甲醛、乙醛、乙酸乙酯、苯系物、苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、烷烴、烯烴、炔烴、芳香烴、酚、硫化氫、硫醇、硫醚、氨、胺、吲哚、硝基等臭氣和廢氣。
紫外光催化除臭的技術(shù)特性
高能UV與活性氧的協(xié)同作用下，對污染物處理能力強，范圍廣；
設(shè)備占地面積小、維護保養(yǎng)便捷、運行費用低；
紫外光輸出強，185nm輻射強度占紫外總輻射量的5~8%；
設(shè)備運行阻力低，機殼可采用SUS304制造，使用壽命長。
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